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三星新建5nm晶圆厂:先进EUV技术 2021年投产
2020-05-22 09:35:41  出处:快科技 作者:小淳 编辑:小淳   点击可以复制本篇文章的标题和链接

随着时间迈入2020年中,以台积电和三星为代表的芯片半导体也从7nm逐步向5nm进发,实际上麒麟1020和苹果A14芯片就是基于台积电5nm工艺,表现相较7nm将会更上一层楼。

很明显在7nm时代,三星是落后于台积电的,不过这家巨头似乎想在5nm时代弯道超车,近日据媒体报道,三星宣布将于汉城南部的平泽市建造全新的5nm晶圆厂。

该工厂是三星在韩国国内的第六条晶圆代工产线,将应用先进的极紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技术,拿7nmEUV工艺对比,三星5nmEUV工艺的性能提升10%,功耗降低了20%,逻辑面积效率提升25%。

三星表示这座工厂将于2021年下半年投产,产品主要应用于5G网络和高效能运算方面。

三星的野心不止于此,在规划中的3nm时代,三星果断抛弃了FinFET,押宝GAA环绕栅极晶体管技术,试图反超台积电。

三星新建5nm晶圆厂:先进EUV技术 2021年投产

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